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“国产芯”再迎喜讯 超纯水设备成为行业发展的重要基石

文章出处:编辑:发表时间:2021-09-07 08:07:52

   芯片是一个巨大的产业。芯片的制造过程复杂而漫长,要实现芯片自主,困难不在于一两点,而在于芯片产业上下游的诸多挑战。目前,我国的芯片陷入困境,面临着从材料到设计和制造的诸多技术壁垒。但现在我国正在慢慢突破技术,实现芯片行业的基本自主。

  近期,我国一家半导体企业取得了新的技术突破。这项技术非常重要,是芯片制造过程中不可或缺的一部分。没有这项技术,芯片制造就无法完成。就重要性而言,这项技术不亚于光刻技术。这家企业就是盛美半导体,它近期又一次攻克了边缘湿法蚀刻技术,并生产了相应的设备。更重要的是,突破依赖于国产技术,这意味着该技术实现了该技术的自主性。此消息一出,可以说是激动人心的,不仅推动了我国芯片产业的发展,也使我国芯片自主化进程向前迈出了一大步。

  

 

  超纯水设备成为行业发展的重要基石

  在芯片生产过程中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一方面,芯片在加工过程中的微污染被清除,另一方面,纯水中的微杂质可能会重新污染芯片,这无疑对产品有很大的影响,因为清洗水一旦含有杂质,就会产生水垢,影响其电阻率和产量。而超纯水设备结合膜分离技术,采用反渗透加离子交换系统(EDI)工艺制备超纯水,具有运行成本低(大大延长了离子交换器的再生周期)和运行可靠的优点,其出水水质的电阻率可达18MΩ·cm(25℃),完全满足芯片清洗用水的要求。

  在不久的将来,将出现一场科技大战。为了在这场竞争中获得主动权和更多的芯片,我国现在必须在不被竞争对手困住的情况下征服一些受阻的技术。实现芯片自主性是非常重要的一部分,超纯水设备已成为行业发展的重要基石。

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