随着半导体行业技术的迅猛发展，集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段，集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高，为了保证芯片材料表面的洁净度，集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工艺。

　　传统的清洗方式是利用去离子水冲洗芯片，这种方式中，去离子水以很高的流量冲击芯片，将芯片上的杂质和污染物冲走，从而达到清洗效果。但是这种清洗方法对芯片的冲击力过大，容易造成元件图案的损坏，并且这种清洗方式的去离子水的利用率低，导致资源浪费。另一种清洗方式是采用盐酸或氢氟酸进行浸泡清洗，然而，此种清洗方法的清洗效果不佳，表面残留的溶液会对芯片表面造成腐蚀。

　　为了弥补传统工艺中的不足，莱特莱德提供更为稳定的超纯水系统，具有工艺简便、成本低、性能优越、耐久性能好、适用范围广等优点，可高效去除芯片表面上的残留物，防止对芯片造成腐蚀，从而提高芯片的使用寿命。

　　1、系统结合了混床和EDI两大工艺的特点，采用低压循环再生模式，低能耗，模块恢复性能优。

　　2、在更换树脂床或使用化学试剂进行树脂再生时并不需要关闭系统，减少了水质量不稳定的因素，同时简化了操作和基建成本。

　　3、系统搭载了错流PON耐污染技术、POM宽流道高架桥旁路技术等多项技术，可实现低压系统运行与高回收率并存。

　　莱特莱德是集设计、生产、制造于一体的综合大型企业，厂家生产的超纯水设备能够长期而稳定的生产出符合质量要求的用水，在石油、化工、炼油、火力发电、电力也都有着重要应用。