电子产业飞速发展，其生产需要的配套产品需求也大大提高。电子产品对精度要求高，因而对电子元件的清洗要求也是很高的。这些应用既需要有高纯度的水质，又需要具有经济性。

　　在半导体制程中，制作集成电路的尺寸越来越小，晶圆上的组件也随之缩小，使得各种有机物、粒子的接触污染及各机台导致的金属杂质等污染物大于或相当于组件尺寸的现象更严重，若在半导体制程中有污染物残留在晶圆表面上，将造成组件短路或缺陷，导致集成电路无法使用。因此，半导体制程中不允许晶圆表面上残留有污染物。污染物的去除是半导体制程中的重要技术，利用超纯水中氢氧自由基清洗晶圆表面的方法，以增加粒子移除的效率，并减少制程成本。

　　莱特莱德能够为用户提供更优品质的超纯水，采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。系统优势如下：

　　1、超纯水设备可连续，稳定地生产高纯度的超纯水，无需因树脂再生而停机。

　　2、系统集成度高，双操作系统，更高系统稳定性。

　　3、日常保养维护简单方便，设备耐用，寿命长。

　　从研发设计、设备制造，到工程施工、运营维护，莱特莱德秉承"科学创新，技术先进，以人为本，客户至上"的经营服务理念。莱特莱德超纯水系统广泛应用于电子芯片、集成电路及封装、二极管、三极管、传感器、电子级氢氟酸、电子级硫酸、电子级双氧水、电子级氨水、高精度线路板、光伏、TFT玻璃基板、晶圆、石英管、超白玻璃、科研、航空航天、高精尖仪表、珠宝加工等领域。