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单晶硅超纯水设备工艺要求讲解

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2020-01-15 12:22:25

  单晶硅超纯水设备设计工艺要求有哪些?下面为大家详细讲解:

 

  1、预处理系统:单晶硅超纯水设备特设了三级预处理系统。特别适合自来水盐度高、硬度大、固体杂质较多、氯含量较高地区的客户,使用极其方便、经济。该设备采用了“层层保护、逐级过滤”的先进设计理念。

  2、反渗透系统:采用高透水率的反渗透RO膜、该反渗透膜具有极强筛分功能,透水量稳定等功能,在系统既定压力下,能精密滤除水中的细菌、病毒、盐类及各种微小物质。脱盐率≥99%。为了增加反渗透系统的使用寿命、该系统中配套设置了自动清洗、自动加药等功能,有效预防反渗透膜结垢堵塞,为设备高效稳定的运行提供了双重保障。

  3、超纯化设备:采用优质核级树脂抛光混床,使水中离子去除率达到99%。水质电阻率达到18.MΩ.CM以上,满足了半导体、单晶硅等行业的高纯水指标。

  单晶硅生产过程中对水质的要求较高,因此大家在设计单晶硅超纯水设备工艺时要十分严格,确保出水水质能够符合单晶硅生产用水要求。

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