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半导体生产用纯水设备运行条件有哪些

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2019-12-27 15:21:41

  半导体生产用纯水设备可以根据客户所提供的原水水质、对纯水质量的需求以及投资运行费用等技术经济指标而进行设计。那么半导体生产用纯水设备运行条件有哪些?

  半导体生产用纯水设备由反渗透膜、高压泵、还有精密过滤器等装置组成。保安过滤器里有过滤孔径大约为5μm的滤芯。这种滤芯能够过滤掉大于5μm的大型颗粒物质,从而保护下游反渗透膜,该情况下的防渗透膜除盐率最高能达99.5%。由于原水PH值的影响,膜运行前原水PH值要控制在3-10,余氯值应该小于0.1mg/L,SDI15值小于5.0,水温温度控制在45℃以下。任何一项指标超标,都会造成RO膜的损坏。

  半导体生产用纯水设备在使用时一定要注意上面的事项,如果达不到标准,所制作出来的水纯度就达不到标准。

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