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半导体超纯水设备能去除水中哪些杂质

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2019-12-24 16:26:37

  众所周知,任何产品的生产都离不开水,水中杂质很多,只有将其去除才能满足用水需求,那么半导体超纯水设备能去除水中哪些杂质?让大家一起来看看。

 

  1、溶解的无机盐

  有钠、钙、镁等盐类,溶于水形成正离子。含有这些离子的水冲洗半导体器件时,会使这些不纯物扩散到集成电路表面,造成短路。

  2、溶解的有机物

  有工业排出污物、洗涤剂、生物分解物和微生物的新陈代谢产物。这些可以用活性炭吸附方法除去。炭床要置于离子交换树脂之前,因活性炭本身会带来杂质。必须注意,进入树脂床的水要先除去有机物,因为离子交换树脂易为有机物污染。反渗透可除去分子量大于300的有机物,分子量小于300的有机物可除去90%。

  3、粒子物质

  很多地方都容易产生,如炭床、树脂床、深层过滤等一些设备。虽然用一些方法能达到高电阻率,但没有有效地除去粒子物质。这就会使半导体器件出现针孔、短路、断路、内部击穿和光致抗蚀剂脱落等缺陷。

  以上就是小编为大家先容的全部内容,希翼对您有帮助。

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