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硅片清洗用去离子水设备滋生细菌用什么方法处理?

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2019-09-27 16:01:50

  硅片清洗用去离子水设备使用过了一段时间之后,不可避免的会发生细菌滋生的问题,细菌滋生不仅会影响设备的产水水质,还会对设备性能产生影响,那么,硅片清洗用去离子水设备滋生细菌用什么方法处理?

 

  1、次氯酸钠添加量应根据水源中细菌数进行相应调整,除了定期对细菌数进行检测外,还应对混合离子交换柱入口游离氯进行检测,以免游离氯超标,影响树脂的正常运行。

  2、注意用水点旋塞的污染,使用频率较小的旋塞容易成为微生物污染的对象,一旦污染,若不长时间放水冲洗,则无法恢复原状态。

  3、次氯酸钠溶液容易氧化分解,若使用时间过长或系统逢节假日停运时间较长,除了从水箱放水让反渗透膜隔一段时间运行数小时、使系统保持活性外,也要对次氯酸钠溶液适时进行更换。

  4、混合离子交换柱通常都采用一用一备的,细菌在静止的电子超纯水系统中能够迅速繁殖,通常在备用混床投入运行前,对其进行再生,以保证杀菌效果。

  在硅片清洗用去离子水设备生产过程中,要记得进行清洗,这样也能有效的避免细菌滋生。

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