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光学材料生产用纯水设备技术要求及应用标准

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2019-09-25 10:22:51

  光学材料生产用纯水设备使用要求严格,出水水质必须达到行业标准,下面大家一起了解光学材料生产用纯水设备技术要求及应用标准。

 

  光学材料生产用纯水设备技术要求:

  光学材料生产用纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级(RO)反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

  光学材料生产用纯水设备标准:

  LED、LCD显像管、液晶显示器用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

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