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EDI膜块结垢的清洗方法

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2013-02-16 10:51:56

 EDI膜块是超纯水设备中的重要组成部分,能够有效去除原水中的污染物质,长期使用会造成EDI膜块结垢,下面为大家详细先容EDI膜块结垢的清洗方法:

  1、EDI在运行中,如果将较差的给水引进组件,或者电源不足,就会增加维修工作量。

  2、给水中主要引起结垢的是TOC,硬度和铁。

  3、给水硬度较高将引起离子交换浓水侧结垢,而使纯水水质降低。同时给水硬度,溶解的CO2和高PH会加速结垢。可以用适当的酸溶液清洗污垢。

  4、给水中的有机物污染,会在离子交换树脂和离子交换膜表面形成薄膜,将严重影响离子迁移速率,从而影响纯水水质。当发生此现象时,纯水室需要适当的清洗。

  5、如果EDI组件在无电或给电不足的情况下运行,交换床内离子处于离子饱和状态,纯水的纯度会降低。为了再生离子交换树脂,需将水流通过组件,并慢慢增加电源供应电压,使被吸附的离子迁移出系统。树脂再生时,组件将通过比正常运行更多的电流。警告:如果电源没有过电流保护,注意不要超过电源的供电容量。

  6、电极连接器应该定期检查,以防由周围条件引起的腐蚀或松弛,以免增加电阻,阻碍电流渡过,导致纯水水质下降。

  7、若膜外部需要清洗请注意以下几点:

  禁止使用丙酮或其它的溶剂。

  当电源开启时禁用水清洗。

  擦洗时使用潮湿的布,可浸少量清洁剂。

  注意保护安全标签。

  EDI浓水侧结垢酸清洗方法:

  在浓水循环箱内配制50升2.5%浓度的HCL溶液,开启浓水泵循环清洗3分钟,然后停泵用清洗液浸泡15分钟,再开启泵循环5分钟。最后排放清洗液,用去离子水冲洗残留的清洗液。

  EDI膜块的再生过程:在清洗、停机或膜块电压过低时,膜块内部的树脂可能会被离子消耗尽,这时候模块需要再生。再生过程将树脂中多余的离子带出膜块,使膜块在稳定状态下运行。再生过程在短时间内大幅度地改变系统参数,将树脂中多余的离子带出膜块,给水离子浓度会降低,电场驱动力将增加,多余的离子将从淡水室迁移到浓水室。再生方法:启动EDI系统,使淡水流量、浓水流量控制有日常流量的一半,极水流量不变,将电流设置为通常的150%-200%。在运行1个小时后,将流量和电流恢复到日常值上。

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