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如何做到单晶硅清洗用超纯水设备“呵护备至”?

文章出处:编辑:发表时间:2021-07-01 15:26:37

   单晶硅是指硅的单晶体,具有基本完整的点阵结构。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999% ,甚至达到99.9999999%以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。

 

  太阳能电池行业要应用单晶硅,首先就要对其加工清洗,而超纯水设备就是一种出水电阻率非常高,不含任何杂质,不导电的设备,符合单晶硅的清洗需求。

  莱特莱德单晶硅清洗用超纯水设备在设计上采用双级反渗透与EDI及抛光混床相结合的制水工艺,具有水利用率高,运行可靠,经济合理等特点。但是单晶硅清洗用超纯水设备在长时间工作后,如果不定期进行维护,就很容易被污染,因此单晶硅清洗用超纯水设备要这样“呵护”,才能保证设备出水水质符合要求。

  1、将清洗液进行混合。

  2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至反渗透系统,并排走原水,防止清洗液稀释。

  3、保持设备温度稳定,用清洗泵将清洗液在系统中循环。

  4、清洗泵进行浸泡一小时即可,污染较严重的反渗透膜可进行更长时间的浸泡清洗。

  5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟,使反渗透膜上被洗掉的污染物随高流速水冲走。

  6、用清水将清洗液冲去。此外,用酸清洗时应测pH值,当pH值上升0.5以上时应增加酸量。

  莱特莱德超纯水设备可以连续稳定的制备品质优良的超纯水,水质稳定在ppt级别,尤其是硼离子可以≤5ppt,能够更好助力集成电路企业的发展,形成更强大的企业竞争力。