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专注EDI超纯水设备研发生产
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光学镜片清洗用超纯水设备为何能如此“豪横”?

莱特莱德超纯水设备配备浓水置换专业技术,防止膜系统受到微生物污染。通过完善的技术,提高系统回收率,降低能耗和运行成本。...

超详细!带你了解超纯水设备在集成电路的应用优势

集成电路是一种微型电子器件或部件,它对于清洗用水的水质有着极高的要求,一旦清洗用水中含有杂质,就会产生水垢,影响其电阻率,影响其成品率,莱特莱德EDI超纯水设备生产...

超纯水设备为PCB电镀涂装行业提供优质清洗用水

莱特莱德PCB电镀涂装行业超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。...

超纯水设备扭转芯片紧缺局势 拓展广阔市场

莱特莱德超纯水设备根据芯片用水要求,采用全自动电去离子超纯水处理技术,前置预处理配套使用加反渗透处理,有效去除水中各种盐份及杂质,进一步提升水质,出水水质完全符...

半导体材料市场迎机遇 且看超纯水设备如何助力行业发展

莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2,高于中国国家电子级超纯水标准GBT11446.1-1997EW-Ⅰ标准。...

反渗透膜在生产纯水和超纯水中的应用

该系统具有出水质量高、连续生产、使用方便、无人值守、不用酸碱、不污染环境、占地面积小和运行经济等一系列优点,被称为“绿色”脱盐系统。...

超纯水设备为集成电路产品规模增长助力

莱特莱德超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃),完全符合集成电路清洗用水要求。...

电子行业景气度有望持续全年 超纯水设备助力行业发展

莱特莱德超纯水是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水,这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,完全满足芯片生产用水需求,解决了我国当下的“芯”难题。...

超纯水设备保证超声波清洗用水水质

莱特莱德超纯水设备具有良好的应用价值,可实现自动控制,在一定程度上可以有效地达到我国电子水质标准,具有自动化程度高,过程易实现自动控制,产水水质稳定等优势。...

晒芯片制造成绩单 超纯水设备助力芯片生产

莱特莱德超纯水设备采用反渗透水处理设备与电去离子设备及抛光混床相结合的方式来制取超纯水,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保、经济、发展潜力巨大的超纯水制备...

提高芯片的使用寿命 莱特莱德超纯水工艺更加稳定

随着半导体行业技术的迅猛发展,集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段,集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高,为了保证芯片材料表面的洁净度,集成电路...

解决传统工艺问题 莱特莱德提供更优品质的超纯水

莱特莱德采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除,保证出水硼离子能够稳定≤5ppt。系统集成度高,双操作系统,更高系统稳定性。可连续,稳定...

多项创新技术依托 为半导体元件提供用水保障

超纯水是半导体元件中用水的重要保障,莱特莱德超纯水设备严格遵循《电子级水GB-T11446.1-2013》超纯水标准,采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子...

运行压力对EDI超纯水系统有哪些影响?

为了EDI超纯水系统能够正常的运行,要保证系统的运行压力在一定的范围内,不要对系统造成损坏。...

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