莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，采用反渗透、EDI装置结合混床模块化设计工艺来制备超纯水，其出水电阻率可达18 MΩ*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求。...

莱特莱德超纯水设备出水水质符合美国ASTM D5127电子及半导体业用纯水水质TypeE-1.2，高于我国国家电子级超纯水标准。...

莱特莱德超纯水设备采用双反+EDI+抛光混床组合工艺，能有效去除水中杂质，保证设备出水水质。...

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。...

莱特莱德超纯水设备可在线检测和显示超纯水电阻率，模块化集成设计，安装方便，维护简单，占地面积小，外观设计美观。...

超纯水的制备过程通常采用四个主要步骤：预处理、反渗透技术、EDI超纯水设备和后处理。...

莱特莱德超纯水设备除了应用在光学领域外，在电子、电力、造纸、日化等领域都有着广泛的应用，具有广阔的应用前景。...

莱特莱德超纯水设备采用膜分离工艺，可以保证出出水水质稳定，全自动的运行方式可以节省人工、降低成本，出水水质稳定达到了国家自来水的标准。...

莱特莱德超纯水设备具有简单、成本低廉、性能优良、耐久性好、适用性强等优点。...

超纯水设备可生产出芯片生产过程中的清洗用水超纯水，保证了芯片的良品率。...

超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。...

超纯水设备采用双反渗透、EDI、抛光混合床相结合的制水工艺，具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。...

莱特莱德生产的EDI超纯水设备，主要采用的是两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，可以确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2MΩ.cm。...

莱特莱德生产的超纯水处理设备，水质电阻率达到了18 MΩ*cm(25℃)，完全符合芯片清洗用水要求。...