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半导体制造用超纯水设备性能优势

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2016-08-30 14:08:59

  超纯水在半导体制造行业中的有着重要作用,半导体制造用超纯水设备操作简单易懂,运行经济环保,出水不含任何杂质,符合半导体制造的用水标准,深受很多厂家的欢迎。

超纯水设备

  半导体制造用超纯水设备工艺流程

  预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗透膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)

超纯水设备

  半导体制造用超纯水设备性能

  1、直接将市政自来水净化为实验室用水

  2、电导率仪在线检测和显示产水水质

  3、采用原装进口高脱盐率反渗透膜

  4、全自动制水,超静音设计

  5、RO系统自动定时清洗,停用期间自清洁

  6、可实现远程、高位供水

  7、具有水质水量可升级性

超纯水设备

  半导体制造用超纯水设备特点

  传统的超纯水制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取,但采用离子交换树脂通常需要经常性的进行树脂再生,即耗费物力又浪费人工。大家企业经过多年实践,同时结合新的反渗透膜分离技术和EDI技术,常采用高效反渗透技术加EDI设备来制备超纯水,该工艺与传统工艺相比具有运行成本低的优点,运行可靠。半导体制造用超纯水设备与新工艺相比具有造价低,耗材易得的优点。反渗透工艺技术先进,可靠,超纯水回收率大于90%。

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